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强激光技术进展1995年第4期出版文献
出版文献量(篇)
395
总下载数(次)
1
强激光技术进展
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主办单位:
中科院上海光机所
ISSN:
CN:
出版周期:
双月刊
邮编:
201800
地址:
上海市800-211信箱
出版文献量(篇)
395
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1.
美国化学氧碘激光器的发展
作者:
True.,KA 常兵
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
1-10
摘要:
这是一篇有关美国化学碘激光技术发展过程的综述,此项工作始于1960年,1977年随着空军武器实验室首次化学氧碘激光器振荡演示成功而达到高潮的关键技术发展。
2.
俄罗斯化学氧碘激光器的研究
作者:
Kryu.,PC 丛征
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
10-16
摘要:
本文对俄罗斯的化学氧碘激光作一综述,包括下列问题,单态氧发生器的发展与研究,连续小脉冲化学氧碘激光运转,二次谐波产生。着重考虑以化学氧碘激光作固体激光器泵浦源的可能性,其基础是化学氧碘激光的...
3.
日本化学氧碘激光器的发展
作者:
Fuji.,H 丛征
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
16-20
摘要:
日本化学氧碘激光器的基本实验与理论研究开始于1981年,几年以后,工作集中在工业应用领域。用于材料加工的第一台商品化学氧碘激光于1992年完成,器件连续波输出功率1KW,一直成功地使用在钢铁...
4.
德国化学氧碘激光研究概况
作者:
Bohn,WL 常兵
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
20-23
摘要:
本文首先给出德国空间研究院进行化学氧碘激光研究活动的历史评述,重点放在这一领域的当前状况。
5.
大型KrF放大器产生的放大自发辐射
作者:
Lela.,WT 张春斌
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
24-34
摘要:
6.
准分子激光对陶瓷的表面处理
作者:
Haurd.,G 高鸿奕
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
34-37
摘要:
准分子激光已应用在对陶瓷的大面积表面处理上,旨在改善其表面形态与性能。本文讨论了KrF激光在对Al2O3陶瓷样品以及陶瓷膜的处理过程中,其参量对上有面特性的影响。
7.
在XeF(C—A)跃迁的反转波中将Nd激光二次谐波放大至10^5J的前景
作者:
М.,ГЯ 周稳观
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
37-40
摘要:
本文讨论了在XeF受激准分子C-A跃迁上用光学激励反转行波放大激光器-激励器输出级中钕激光的二次谐波及其用于激光热核聚变的可能性。计算结果显示将输出能量放大至10^5J的现实可能性。
8.
相位板如何变换与控制激光束
作者:
Casp.,LW 庄国良
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
41-44
摘要:
9.
以等离子体引导高能激光脉冲
作者:
朱健强
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
44-45
摘要:
10.
水冷式双压电晶片自适应镜激光光学元件
作者:
Ikra.,AV 施志果
刊名:
强激光技术进展
发表期刊:
1995年4期
页码: 
45-48,F003
摘要:
提出水冷式双压电晶片自适应铜镜和钼镜以补偿输出功率高达15KW激光系统的大规模光学象差,报道所研制的水冷式双压电晶片反射镜特性的研究结果,实验结果和计算机模拟结果进行了比较。提出和讨论了双压...
强激光技术进展基本信息
刊名
强激光技术进展
主编
曾用名
主办单位
中科院上海光机所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
ISSN
CN
邮编
201800
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地址
上海市800-211信箱
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