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强激光技术进展1999年第2期出版文献

出版文献量（篇）

395

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强激光技术进展

投稿

主办单位：

中科院上海光机所

ISSN：

CN：

出版周期：

双月刊

邮编：

201800

地址：

上海市800-211信箱

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热门刊内文献

年度刊次

1. 用于现代惯性约束聚变实验的低温靶

作者： Alek.,IV Kore.,ER

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 1-12

摘要：随着用于现代惯性约束聚变实验镀层技术的发展，科学家已对带有多种内部结构低温燃料层形成的物理及对非等容过程低温层形成的靶模拟系统进行了研究。研究结果表明，此种靶模拟系统中的固体层结构与约束聚变...
2. 惯性约束聚变间接激光驱动内爆的综合数值模拟

作者： Ramir.,J Ramis.,R

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 12-18

摘要：在用ＭＵＬＴＩ２Ｄ的最新修订版的综合计算中分析了国家点火装置型黑腔靶。数值模拟包括：拉格朗日网格，激光束跟踪，逆轫致吸收，３Ｄ辐射传输，外壳和窗口材料的辐射感生流体动力学和辐射驱动的靶丸聚爆...
3. 激光能量为300kJ时每脉冲获得10^17个中子的靶参数测量

作者： Бе.,С До.,В

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 18-21

摘要：对激光能量为３００ｋＪ时能保证反应点火和产生每脉冲－１０＾１７个中子的中子脉冲的低温壳层靶进行了计算。研究了两种激光脉冲宽度，并提出了直接辐照靶系统中实现ＤＴ燃料低熵压缩所必需的激光辐射强度...
4. X光激光计划对当代科学技术发展的贡献

作者：孙景文

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 22-32

摘要：
5. 以超强飞秒激光脉冲辐照多孔硅产生硬X射线辐射

作者： Во.,Р До.,В

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 32-34

摘要：用强度为１０＾１６Ｗ／ｃｍ＾２的飞秒激光脉冲辐照气孔率高于７０％的硅靶时，产生硬Ｘ射线辐射的效率比量子能量Ｅ〉２．５６ｋｅＶ的高２．５倍，比Ｅ〉８ｋｅＶ时高３０倍。研究了此效应与多孔硅荧光特...
6. 90°汤姆逊散射产生0.04nm飞秒X光脉冲：探测材料结构动力学的工具

作者： Scho.,RW Leem.,WP

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 34-38

摘要：
7. 类氖氩毛细管放电台式软X光激光的二维近场和远场成像

作者： More.,CH Marc.,MC

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 39-40

摘要：
8. 相位匹配产生相干软X光

作者： Rundq.,A Durf.,CG

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 40-41

摘要：
9. 建立100TW飞秒放电准分子系统的可能性

作者： Дж.,М Ми.,П

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 42-47

摘要：数值模拟表明，对飞秒ＸｅＣｌ准分子系统的辐射进行受激拉曼散射变换时，能获得具有列可观特性的脉冲：增益带逆向宽度小的持续时间，高度倾斜的前沿和高的反差。提出一种四通道串联受激拉曼散射脉冲合...
10. 振荡能量为200J的XeCl激光器

作者： Ив.,Н Ло.,В

刊名：强激光技术进展

发表期刊： 1999年2期

页码: 48,F004

摘要：对两束相向电子束，孔径为２５×２５ｃｍＸｅＣｌ激光器的参数进行了计算和实验测量。在总压力为２．５ａｔｍ时，对于最佳组份配比为Ａｒ：Ｘｅ：ＨＣｌ＝７００：１０：１，脉宽为２５０ｎｓ的振荡脉...

强激光技术进展基本信息

刊名	强激光技术进展	主编
曾用名
主办单位	中科院上海光机所	主管单位
出版周期	双月刊	语种
ISSN		CN
邮编	201800	电子邮箱
电话		网址
地址	上海市800-211信箱