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微细加工技术2002年第4期出版文献
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
微细加工技术
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投稿
Microfabrication Technology
CSTPCD
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
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目录
1.
超精细图案光刻技术的研究与发展
作者:
张亚非 徐东 王印月 赵猛
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
1-6
摘要:
根据国内外研究和发展现状,对有望突破100nm超精细图案光刻分辨率的一些关键技术进行了阐述,其中包括曝光技术、掩模技术、光学系统改进和以离轴照明、相位移掩模、多重滤光和图形演算为代表的分辨率...
2.
聚焦偏转复合系统像差分析及应用
作者:
尹明 张玉林
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
7-10
摘要:
介绍了以DX-3扫描电镜为基础,利用SDS-2电子束扫描系统改装其偏转系统.并给出了磁聚焦和静电的偏转场相复合情况下竖轴点源的三级几何像差系数和一级色差系数公式.应用中表明,复合系统结构简单...
3.
《微细加工技术》加入"中国期刊网"声明
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
10-10
摘要:
4.
束流测量中的工频陷波器
作者:
陈振生
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
11-13
摘要:
提出一种应用于电子束曝光机束流测量中的自动跟踪工频陷波器,给出电路结构,基于对其工作原理的分析,介绍了提高陷波器跟踪精度的设计要点及调试方法.
5.
一种新的电子束曝光机中间图形及其数据格式
作者:
林滢 薛虹
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
14-20,31
摘要:
在一种新的电子束曝光机二次曲线单元图的基础上定义了一种中间图形数据格式.该数据格式是为了将版图制造业标准数据格式转换为电子束曝光机专用数据格式服务的.它采用Niklans Wirth的表示方...
6.
缩小投影电子束曝光机的调试技术
作者:
张福安 彭开武 顾文琪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
21-25
摘要:
详细介绍了在透射电镜上进行缩小投影电子束曝光技术原理性实验的主要调试过程.它充分利用了透射电镜本身的功能与特点.整个调试方法不仅可获得高分辨率图形,而且为下一步的研究工作提供了比较好的工作参...
7.
利用Nikon光刻机进行膜应力评价
作者:
严利人 曹秉军 鲁勇
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
26-31
摘要:
MEMS器件制作过程中,结构薄膜的应力和膜内的应力梯度必须进行严格的控制,因而对于LPCVD工艺有特殊的要求.应力测量一般要借助专门仪器进行,在不具备测量设备的情况下,可以利用光刻机来进行膜...
8.
变栅距衍射光栅刻划机的控制系统设计
作者:
时轮
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
32-35
摘要:
提出了采用相位扫描方法加工变栅距(VLS)光栅的基本原理,给出了VLS光栅刻划机的控制系统,并通过刻划实验对这一新方法进行了验证.
9.
编者话
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
35-35
摘要:
10.
减小光刻中驻波效应的新方法研究
作者:
杜惊雷 杨静 肖啸 谢世伟 郭永康
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
36-39,44
摘要:
光刻过程中,抗蚀剂内部光敏混合物(PAC)浓度受光场的影响呈驻波分布,导致抗蚀剂显影后的侧壁轮廓成锯齿状.分析了后烘(PEB)对PAC浓度分布的影响,模拟了不同后烘扩散长度下的抗蚀剂显影轮廓...
11.
PECVD法制备低介电常数含氟碳膜研究
作者:
刘雄飞 李幼真 肖剑荣
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
40-44
摘要:
采用PECVD法制备了低介电常数薄膜a-C:F,研究了薄膜沉积速率与温度及射频功率的关系,测量了不同沉积条件下薄膜的介电常数,并用FTIR分析了薄膜的化学结构及成分,发现薄膜沉积速率与沉积条...
12.
微测辐射热计用氧化钒薄膜制备及特性
作者:
曹永峰 李炳宗 茹国平
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
45-53,65
摘要:
热敏薄膜电阻制备是非致冷微测辐射热计红外焦平面的一项关键技术.对目前在非致冷微测辐射热计研制中得到成功应用的氧化钒薄膜的特性、制备及表征技术进行综述.氧化钒存在多种物相和结构(VOx:0<x...
13.
反应离子刻蚀PMMA的各向异性刻蚀研究
作者:
丁桂甫 杨春生 黄龙旺
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
54-57
摘要:
研究目的是优化Ni掩模PMMA RIE的刻蚀参数,在氧刻蚀气体中加入表面钝化性气体CHF3,以较快的刻蚀速率获得垂直的侧壁和最小的掩模钻蚀.采用平行板结构的反应离子刻蚀机刻蚀,研究了刻蚀气压...
14.
离子束溅射制备的氧化钽层的绝缘特性
作者:
禹庆荣 陈特超
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
58-60
摘要:
介绍了一种具有高附着力和优良绝缘性能的Ta2O5介质膜,它由离子束溅射镀膜工艺制备而成.检测了在不同氧气流量下制备的氧化钽薄膜的绝缘性.结果表明:在其余条件相同的情况下,氧气流量越大所制备的...
15.
基于DEM技术的塑料毛细管电泳芯片加工工艺
作者:
张立国 李以贵 杨帆 陈迪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
61-65
摘要:
传统的毛细管电泳芯片基体材料以硅和玻璃为主,成本较高,且不适合于生化领域.而以聚合物作为基片材料,由于材料成本较低,且微复制方法成本也很低,因此可望在商业上取得广泛的应用.采用DEM技术,利...
16.
微反射镜和光纤自对准V型槽的制作
作者:
刘彩霞 张歆东 张龙 潘建旋 纪平 董玮 贾翠萍 阮圣平 陈维友
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
66-69,74
摘要:
用纯KOH水溶液和KOH+IPA混合水溶液在(100)硅片上沿<100>方向上腐蚀所暴露的平面是不同的.纯KOH水溶液中总是能暴露与衬底垂直的{100}面,在KOH+IPA溶液中,随着KOH...
17.
基于网络的氮窑电气控制系统
作者:
唐超凡 胡晓宇 龚杰洪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
70-74
摘要:
介绍了一种基于网络的氮窑电气控制系统,该系统以可编程控制器(PLC)为核心,通过3条现场网络实现氮窑电气系统的分布式控制.即以CompoBus/S网络组成氮窑循环送料控制回路;以CompoB...
18.
钟罩式气氛炉计算机控制系统的设计和实现
作者:
刘亚红 孙军 杨琦 肖益波
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2002年4期
页码: 
75-78
摘要:
介绍了基于工控机工作站的钟罩式气氛炉控制系统,阐述了其硬件组成及工作原理和软件实现,该系统控制功能强大,能在非常恶劣的磁性材料生产线上稳定运行.
微细加工技术基本信息
刊名
微细加工技术
主编
曾用名
主办单位
中国电子科技集团公司第48研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
chi
ISSN
1003-8213
CN
43-1140/TN
邮编
电子邮箱
电话
网址
地址
湖南省长沙市
微细加工技术评价信息
该刊被以下数据库收录
1.
中国科技论文统计与引文分析数据库
期刊荣誉
1.
国家一级检索刊物用刊
2.
美国工程信息公司Ei数据库收录
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