第5页_真空电子技术2003年出版文献-钛学术文献服务平台

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真空电子技术

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Vacuum Electronics

CSTPCD

影响因子 0.1767

本刊1959年创刊，现为双月刊，国内外公开发行。是真空电子专业协会会刊，电真空情报网网刊，中国真空电子技术领域唯一的综合技术类刊物。设有专家论坛、研究报告、研究与设计、新技术、技术交流、工艺与应用、综述等栏目。主要刊登的是真空微波器件、离子器件真空开关器件等真空电子器件；CPT、CDT、PDP等显示器件和光电器件；照明光源；真空获得、测量、控制；气体分析；表面技术；电子材料及特殊工艺等方面的... 更多

主办单位：

北京真空电子技术研究所

期刊荣誉：

编辑质量奖

ISSN：

1002-8935

CN：

11-2485/TN

出版周期：

双月刊

邮编：

100015

地址：

北京749信箱7分箱

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热门刊内文献

年度刊次

121. 交流等离子体显示屏障壁技术的进展

作者：周子正

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 45-49

摘要：障壁是交流等离子显示屏关键结构部分,障壁结构和制作的优劣,直接影响交流等离子显示屏光电性能.本文就交流等离子显示屏障壁制造技术,如丝网漏印法、喷砂法、感光浆料法、光刻胶埋入法等进行了介绍.
122. 发射管使用寿命的提高

作者：朱文星

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 50-53

摘要：
123. X射线管焦点控制研究

作者：胡海洪

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 54-57

摘要： X射线管的焦点是通过静电场对电子束的会聚作用而形成的.焦点的尺寸大小及聚焦质量直接影响X射线机透视、摄影图像的清晰度;同时,焦点的尺寸大小与X射线管的功率有着密切的关系.本文通过一系列的实验...
124. 50英寸PDP中DVI电路的研究

作者：刘玮张浩

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 58-60

摘要：介绍了DVI规范和TMDS连接系统的基本原理.通过对一个数字接收器分析,具体讨论了DVI电路对数字视频信号的处理过程.
125. 电子束炉的控制系统设计

作者：孙涛

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 61-64

摘要：在20 kw电子束炉改造中,重新设计了基于PLC和组态软件的控制系统,本文介绍了该系统的设计方法.并阐述了主要工艺参数压强和熔炼功率的控制方案及其算法.
126. 计算机模拟技术在玻璃生产中的应用

作者：李留恩贾伟

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 65-69

摘要：通过一个池炉的数学模拟与实际生产状况的比较得出:池炉数学模拟软件可以对高温池炉的运行工况进行符合实际情况的模拟分析,为调整工艺条件提供方向.
127. 生产过程中真空灭弧室零件的预除气和储存

作者：魏铁印

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 70-73

摘要：真空灭弧室的真空度质量十分重要.本文就真空灭弧室的真空度质量与零件的预除气、储存等有关方面进行一些讨论;会对真空灭弧室的生产开发有所帮助.
128. 64 cm FS彩色显像管白场品位的提高

作者：房晓敏王建平王鹏薛寅复边辉

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 74-75,78

摘要：通过对64 cm FS 彩管白场的测试及分析,确定提高白场色度及亮度比是提高整管白场品位的关键.经过对涂屏工艺条件的优化,对曝光台主透镜曲面及荫罩槽宽的优化设计,使该管型白场品位低下的顽疾得...
129. 彩管生产中黑化膜发红、脱落的研究

作者：李朝明裴大国

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 76-78

摘要：介绍了在彩色显像管生产中,荫罩黑化反应的原理,并由此分析黑化膜发红、脱落时的对策.
130. 序

作者：

刊名：真空电子技术

发表期刊： 2003年6期

页码: 83-84

摘要：

真空电子技术基本信息

刊名	真空电子技术	主编	廖复疆
曾用名
主办单位	北京真空电子技术研究所	主管单位	工业和信息化部
出版周期	双月刊	语种	chi
ISSN	1002-8935	CN	11-2485/TN
邮编	100015	电子邮箱	VETECH@163.com
电话	010-84352012	网址
地址	北京749信箱7分箱