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一种金属多层膜霍尔器件及其制备方法
一种金属多层膜霍尔器件及其制备方法
申请人：
摘要：
本发明涉及一种金属多层膜霍尔器件，其由在硅基片上交替生长的磁性金属层和Pt层构成，磁性金属选用Fe、Co或/和CoFe合金。该金属霍尔器件具有超高灵敏度，在室温下甚至可以达到1200V/AT，这已经超过了目前半导体霍尔器件的灵敏度，可应用于传感器和磁存储系统中。本发明提供的上述金属霍尔器件的制备工艺简单、重复且稳定，非常适合实际操作。
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN200610144053.6 | 申请日 | 2006-11-24 |
| 授权公布号 | CN100555698C | 授权公告日 | 2009-10-28 |
| 申请人 | 中国科学院物理研究所 | ||
| 地址 | 北京市海淀区中关村南三街8号 | ||
| 发明人 | 竺云 蔡建旺 | ||
| 分类号 | H01L43/06(2006.01) H01L43/04(2006.01) H01L43/14(2006.01) | 主分类号 | H01L43/06(2006.01) |
| 国省代码 | 北京 | 页数 | 12 |
| 代理机构 | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | ||
| 代理人 | 高存秀 | ||
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