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蒸金光刻网状电极及其制备
蒸金光刻网状电极及其制备
申请人：
摘要：
本发明涉及一种光谱电化学用光透薄层蒸金光刻网状电极。现有金网价格昂贵，又要手工制作成电极，不但使电极规格不一，而且脆弱不耐用。本发明采用集成电路掩膜光刻技术在石英片或光学玻璃片上光刻金网，制成面积为25×8mm2的电极。本方法工艺成熟、价格低，制成的金网电极坚固耐用，光透范围广，规格统一，易工业化生产，是光谱电化学技术中理想的电极。
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN90102815.0 | 申请日 | 1990-03-17 |
| 授权公布号 | CN1014459B | 授权公告日 | 1991-10-23 |
| 申请人 | 复旦大学 | ||
| 地址 | 上海市邯郸路220号 | ||
| 发明人 | 邓家祺 方志烈 吴性良 杨清河 邓子峰 陈航 | ||
| 分类号 | G01N27/30 | 主分类号 | G01N27/30 |
| 国省代码 | 上海 | 页数 | 6 |
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