用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置

摘要:
本发明公开了一种用于浸没式曝光装置的物件表面形貌检测装置,包括:设置在曝光装置和被曝光物体之间的液体供给装置,所述液体供给装置内部为一空腔,所述空腔四周设置有若干与液体供给管路连通的小孔,液体通过所述小孔填充至液体供给装置与被曝光物体之间,所述液体供给管路上安装有液体压力传感器。本发明通过在曝光装置和被曝光物体之间设置一个液体供给装置,在液体供给装置的空腔周围设置若干小孔,每个小孔单独供给液体。通过液体压力传感器检测每个小孔的液体压力值,判断被测量物体表面与出液小孔的相对距离。通过该相对距离反映被测量物体表面的高度,将每个小孔内获得压力转换成高度值,模拟出被测量物体表面形貌。
基本信息
专利类型 发明
申请(专利)号 CN201410171815.6 申请日 2014-04-25
授权公布号 CN105022233B 授权公告日 2018-06-29
申请人 上海微电子装备(集团)股份有限公司 
地址 上海市浦东新区张东路1525号
发明人 卢士良 章磊 陶国峰 
分类号 G03F7/20  主分类号 G03F7/20
国省代码 上海 页数
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 上海微电子装备(集团)股份有限公司 
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2018-06-29 授权 授权
2017-08-15 著录事项变更 著录事项变更IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张东路1525号变更后:201203 上海市浦东新区张东路1525号
2015-12-02 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20140425
2015-11-04 公开 公开
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