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F1层不完全发育电离层模型及反演方法
F1层不完全发育电离层模型及反演方法
申请人：
摘要：
本发明提供一种F1层不完全发育电离层模型及反演方法，包括下列步骤：步骤A：进行数据预处理，根据实测垂测图，确定当前电离层存在的层数，以及频率-虚高描迹信息，并根据描迹信息进行各层频点抽取；步骤B：进行分层处理，并根据各层描迹信息，首先对E层进行反演，在E层反演的基础上，反演F1层和F2层；步骤C：判断F1层是否充分发育，在反演计算时根据F2层实测描迹前端的频率-虚高数据，推测F1层的发育情况；根据F1层的发育情况按照相应的模型进行反演计算。本发明能够有效的反演被遮蔽的F1层参数，同样能够满足实测虚高与计算虚高均方根误差最小。<pb pnum="1" />
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN200910122586.8 | 申请日 | 2009-09-18 |
| 授权公布号 | CN106134480B | 授权公告日 | 2013-04-17 |
| 申请人 | 中国电子科技集团公司第二十二研究所 | ||
| 地址 | 山东省青岛城阳仙山东路36号 | ||
| 发明人 | 柳文 李书苓 | ||
| 分类号 | G06F19/00(2011.01) | 主分类号 | G06F19/00(2011.01) |
| 国省代码 | 山东 | 页数 | 11 |
| 代理机构 | 工业和信息化部电子专利中心 | ||
| 代理人 | 中国电子科技集团公司第二十二研究所 | ||
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