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一种基于激光诱导等离子体改进中子产率的装置及方法
一种基于激光诱导等离子体改进中子产率的装置及方法
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摘要：
一种基于激光诱导等离子体改进中子产率的装置及方法，包括沿中子产生方向依次设置有激光器控制器、激光器、光学聚焦系统、氘气气室、加速管、氚靶、中子探测器；激光控制器控制激光器，激光器输出脉冲激光，脉冲激光经过光学聚焦系统后缩小了激光束直径，聚焦后的激光入射到了氘气气室介质中，使氘气产生等离子体，氘气等离子体在加速管中加速，加速后轰击氚靶，中子探测器用于测量中子的产量。本发明会显著提高氘等离子体产生过程中的受控性和等离子体密度，最终提高种子源的产率，同时消除了高压电脉冲带来的不利影响。
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN201911376274.X | 申请日 | 2019-12-27 |
| 授权公布号 | CN111050457A | 授权公告日 | 2020-04-21 |
| 申请人 | 西京学院 | ||
| 地址 | 陕西省西安市长安区西京路1号 | ||
| 发明人 | 党宏涛 马欲飞 郑小海 刘福华 | ||
| 分类号 | H05H1/24 H05H3/06 G21G4/02 | 主分类号 | H05H1/24 |
| 国省代码 | 页数 | ||
| 代理机构 | 西安智大知识产权代理事务所 | ||
| 代理人 | 刘国智 | ||
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