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分离栅极式闪存的制造方法
分离栅极式闪存的制造方法
申请人：
摘要：
一种分离栅极式闪存的制造方法,在基底上依序形成穿隧氧化物层、第一导电层与硬罩幕层,在硬罩幕上形成漏极开口与浮置栅开口,暴露第一导电层;在第一导电层上形成二复－氧化物层,去除一层及第一导电层,露出基底;在基底上形成漏极区,去除硬罩幕,以第二复－氧化物为罩幕蚀刻第一导电层形成浮置栅,再形成分离栅极氧化物层,第二复－氧化物层上形成导电层,在该导电层上形成控制栅,在浮置栅侧的基底形成源极区。
基本信息
| 专利类型 | 发明 | ||
| 申请(专利)号 | CN01110212.8 | 申请日 | 2001-04-02 |
| 授权公布号 | CN1378268A | 授权公告日 | 2002-11-06 |
| 申请人 | 华邦电子股份有限公司 | ||
| 地址 | 台湾新竹科学工业园区研新三路四号 | ||
| 发明人 | 黄智睦 蔡荣昱 任兴华 林淑惠 | ||
| 分类号 | H01L21/82 H01L21/8246 | 主分类号 | H01L21/82 |
| 国省代码 | 中国台湾 | 页数 | 17 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | ||
| 代理人 | 华邦电子股份有限公司 | ||
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