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远程等离子体
Ar
表面改性
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 等离子体蚀刻中离子轰击对氟化硅表面层的影响
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 工学
关键词 等离子体蚀刻 氟化硅 离子轰击 半导体器件
年,卷(期) 1995,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 18-19
页数 2页 分类号 TN405.982
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研究主题发展历程
节点文献
等离子体蚀刻
氟化硅
离子轰击
半导体器件
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等离子体应用技术快报
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