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用氢多极微波等离子体清洗硅表面
用氢多极微波等离子体清洗硅表面
作者:
乐生
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硅
表面清洗
微波
等离子体
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集成电路
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用氢多极微波等离子体清洗硅表面
来源期刊
等离子体应用技术快报
学科
工学
关键词
硅
表面清洗
微波
等离子体
VLSI
集成电路
年,卷(期)
1995,(7)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
16-17
页数
2页
分类号
TN405
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等离子体应用技术快报
主办单位:
核工业西南物理研究院
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月刊
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