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SiCl4／CH4／Ar基等离子体中AlInGaP和GaAs的RIE
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文献信息
| 篇名 | SiCl4／CH4／Ar基等离子体中AlInGaP和GaAs的RIE | ||
| 来源期刊 | 等离子体应用技术快报 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 离子蚀刻 等离子体 砷化镓 AlInGaP | ||
| 年，卷（期） | 1996,（2） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 4-5 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | TN304.2 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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等离子体应用技术快报
主办单位：
核工业西南物理研究院
出版周期：
月刊
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四川省成都市432信箱
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创刊时间：
语种：
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864
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