超氧化物阴离子自由基对菌斑牙面氧化还原电位的影响

• 作者: 唐荣银 李刚 李洁 王成龙 阎鹏 黄力子
• 来源期刊: 实用口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 牙菌斑 氧化-还原电位 龋齿 超氧化物 阴离子 自由基 超氧化物歧化酶
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 269-270
• 分类号: R78
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3733.1999.04.010

摘要

目的:验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系.方法:①测试菌斑氧化还原电位.②利用SOD作为干扰因素观察氧化还原电位的变化.结果:菌斑电位低于非菌斑牙面电位,为负电位.菌斑加SOD后使菌斑电位升高.结论:菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关,自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成龙	西安第四军医大学口腔医学院	3	6	2.0	2.0
2	李洁	西安第四军医大学口腔医学院	7	38	3.0	6.0
3	黄力子	西安第四军医大学口腔医学院	3	3	1.0	1.0
4	唐荣银	西安第四军医大学口腔医学院	6	54	5.0	6.0
5	李刚	西安第四军医大学口腔医学院	6	24	3.0	4.0
6	阎鹏	西安第四军医大学口腔医学院	1	3	1.0	1.0