几种阴离子对亚稳态孔蚀行为的影响

• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 亚稳态孔蚀 阴离子 生长速度
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 页码范围: 21-26
• 页数: 6页
• 分类号: TG172
• 语种: 中文

摘要

用恒电位下的电流-时间记录法研究了Cl－、SO、PO、CrO －离子对非晶态合金亚稳态孔蚀的形核速度、生长速度和再钝化速度的影响.亚稳小孔再钝化过程中电流和时间的关系为:Imax－I＝R(t－tmax),其中再钝化速度参数R大致服从对数正态分布.提高Cl－浓度明显加快亚稳态小孔的形核和生长速度,并导致亚稳小孔平均尺寸增大.SO、PO和CrO既能阻碍亚稳小孔形核,也有效降低其生长速度,三种离子抑制亚稳蚀孔形核和生长作用的大小顺序为:CrO＞PO＞SO.亚稳态小孔的再钝化速度受介质组成变化的影响相对较小.