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铝阳极氧化膜缺陷形成机制及改善方法
铝阳极氧化膜缺陷形成机制及改善方法
作者:
赵泉柱
韦春才
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
铝电解电容器
氧化膜
缺陷
摘要:
铝电解电容器的电介质是一层微米级的氧化铝膜,其本身存在的各种缺陷直接影响电容器的电性能、可靠性及寿命.阐述了铝电解电容器阳极氧化膜杂质缺陷、水化物层缺陷、表面龟裂缺陷的形成机制,并提出改善方法.介绍了选用高纯度原料法、热处理法、电压变化法、水化物去除法和热水处理法,并证明了上述5种方法的有效性.
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关键词热度
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文献信息
篇名
铝阳极氧化膜缺陷形成机制及改善方法
来源期刊
沈阳工业大学学报
学科
工学
关键词
铝电解电容器
氧化膜
缺陷
年,卷(期)
1999,(1)
所属期刊栏目
电子工程
研究方向
页码范围
48-49
页数
分类号
TN604
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-1646.1999.01.015
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵泉柱
沈阳工业大学电子工程系
2
10
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2.0
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韦春才
沈阳工业大学电子工程系
9
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参考文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
铝电解电容器
氧化膜
缺陷
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
沈阳工业大学学报
主办单位:
沈阳工业大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-1646
CN:
21-1189/T
开本:
大16开
出版地:
沈阳市铁西区南十三路1号
邮发代号:
8-165
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2983
总下载数(次)
5
总被引数(次)
22269
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