有限尺寸介质基片上的共面带线

• 作者: 阮成礼
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 共面带线 共形映射 有限尺寸介质基片 单位长度电容 有效介电常数 特性阻抗
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 页码范围: 366-370
• 页数: 5页
• 分类号: TN015|TN811
• 字数: 1627字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.1999.04.008

摘要

讨论了厚度和宽度都为有限尺寸的介质基片上共面带线的基本参数;有限尺寸介质基片上的共面带线是一种非常接近于工程应用状态的物理模型.用共形映射技术分析这种共面带线,得到了单位长度电容、有效介电常数和特性阻抗等基本参数;与介质基片宽度为无限大的理想化模型作了比较;给出了以无限宽介质基片共面带线作近似模型,介质基片宽度变化所产生的误差;讨论了多层有限尺寸介质基片上的共面带线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阮成礼	电子科技大学应用物理所	55	513	14.0	19.0