氢对纯铁钝化膜电子性质的影响

• 作者: 乔利杰 曾一民 杨迈之 褚武扬
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纯铁 钝化 光电化学 交流阻抗
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 74-80
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.5
• 字数: 2560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4537.2000.02.002

摘要

采用电化学、光电化学和交流阻抗等方法研究了氢对纯铁钝化膜形成过程和电子性质的影响.结果表明氢的存在会延长钝化膜的形成,增加稳态钝化条件下的溶解速率;氢能提高钝化膜光电流、降低禁带宽度;氢促使钝化膜的电容和掺杂浓度升高,并降低膜的平带电位.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔利杰	北京科技大学材料物理系	139	834	15.0	21.0
2	褚武扬	北京科技大学材料物理系	135	889	17.0	22.0
3	杨迈之	北京大学化学与化工学院	24	616	12.0	24.0
4	曾一民	北京科技大学材料物理系	5	20	3.0	4.0