用于立体光刻技术的阳离子及混杂光聚合体系的研究

• 作者: 孟怀东 林天舒 洪啸吟 阴金香
• 来源期刊: 辐射研究与辐射工艺学报
• 学科: 化学
• 关键词: 立体光刻 阳离子光聚合反应 混杂光聚合反应
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 19-24
• 页数: 6页
• 分类号: O63
• 字数: 2804字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3436.2000.01.004

摘要

研究了阳离子及混杂光聚合体系中引发剂、齐聚物、稀释剂的组成及浓度变化对光聚合反应速度、凝胶率及其性能的影响,并对混杂型树脂进行了立体光刻的应用研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阴金香	清华大学化学系	11	88	4.0	9.0
2	洪啸吟	清华大学化学系	46	693	12.0	26.0
3	林天舒	清华大学化学系	9	75	4.0	8.0
4	孟怀东	清华大学化学系	1	20	1.0	1.0