表面无小丘Al双层栅电极结构研究

• 作者: 刘宏宇 杨柏梁 王刚 赵超 黄锡珉
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: Al双层栅电极 小丘现象 应力释放 差热分析
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 92-100
• 页数: 9页
• 分类号: TN873.93|O484.4
• 字数: 3841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2000.02.003

摘要

利用DSC方法研究了纯铝薄膜中的小丘现象,同时制备了Al双层栅电极Ta/Al、 Cr/Al和Mo/Al薄膜,并在不同温度下进行了退火处理,研究了双层结构中上层金属(Ta、 Cr和Mo)厚度对Al薄膜中小丘的抑制作用.实验结果表明,上层Ta膜厚度在80～90nm左右(在本实验条件下)时,可得到表面无小丘的Ta/Al薄膜栅材料.实验制备的表面无小丘Ta/Al、 Cr/Al和Mo/Al等栅电极材料的电阻率均在7～20μΩ.cm之间,基本满足现今对角线为25～51cm(10～20in)大屏幕、高清晰度TFT LCD要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王刚	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	164	1405	19.0	32.0
3	黄锡珉	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	39	413	11.0	19.0
4	杨柏梁	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	12	90	7.0	9.0
5	赵超	吉林大学电子工程系	7	54	4.0	7.0
8	刘宏宇	吉林大学电子工程系	12	82	6.0	9.0