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折射型微透镜列阵制作的一种新途径
折射型微透镜列阵制作的一种新途径
作者:
卢国纬
周礼书
李学民
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微透镜列阵
灰阶掩模
激光直写
摘要:
介绍了一种制作折射型微透镜列阵的新方法,其主要思想参考了灰阶掩模法.所用掩模板用激光直写制作,通过一次曝光即可在光刻胶上形成折射型微透镜的轮廓,并给出了微透镜轮廓的测试图样.
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文献信息
篇名
折射型微透镜列阵制作的一种新途径
来源期刊
电子科技大学学报
学科
工学
关键词
微透镜列阵
灰阶掩模
激光直写
年,卷(期)
2000,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
294-296
页数
3页
分类号
O434.19|TH74
字数
1749字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-0548.2000.03.018
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
周礼书
中国科学院光电研究所
4
47
3.0
4.0
2
李学民
电子科技大学应用物理所
1
5
1.0
1.0
3
卢国纬
电子科技大学应用物理所
1
5
1.0
1.0
传播情况
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引文网络
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1997(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2000(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2003(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2007(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2008(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2016(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
微透镜列阵
灰阶掩模
激光直写
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子科技大学学报
主办单位:
电子科技大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-0548
CN:
51-1207/T
开本:
大16开
出版地:
成都市成华区建设北路二段四号
邮发代号:
62-34
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
4185
总下载数(次)
13
总被引数(次)
36111
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