面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作

• 作者: 何苗 张新宇 易新建 赵兴荣
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 红外电荷耦合器件芯片 硅折射微透镜阵列
• 年，卷（期）: 1999,（8）
• 所属期刊栏目: 科研通信
• 页码范围: 135-136
• 页数: 2页
• 分类号: TN91
• 字数: 2085字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.1999.08.041

摘要

采用氩离子束刻蚀制作与一种128×128元PtSi IRCCD摄像芯片匹配的单片硅折射微透镜阵列.所制成的微小光学阵列元件的填充系数高于95%,每单元硅折射微透镜为矩底拱面形,其近轴光(3～5μm光谱波段)的焦距约为80μm,给出了硅折射微透镜阵列的表面探针和扫描电子显微镜测试结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中理工大学光电子工程系	20	146	7.0	11.0
2	张新宇	华中理工大学光电子工程系	3	21	2.0	3.0
3	赵兴荣	华中理工大学光电子工程系	4	9	2.0	3.0
4	何苗	华中理工大学光电子工程系	4	26	3.0	4.0