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TMAH在压力传感器制作中的应用
TMAH在压力传感器制作中的应用
作者:
刘洪
姚素英
张生才
张维新
曲宏伟
毛赣如
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
四甲基氢氧化铵
终止腐蚀
高温压力传感器
各向异性腐蚀
硅杯
摘要:
介绍了四甲基氢氧化铵(TMAH)溶液的腐蚀特性,论述了在单晶硅和多晶硅高温压力传感器的制作过程中,TMAH腐蚀液在浓硼终止腐蚀和各向异性硅杯腐蚀两个制作工艺中的应用.通过大量的实验得到了较为理想的腐蚀条件,取得了较好的腐蚀结果.
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文献信息
篇名
TMAH在压力传感器制作中的应用
来源期刊
电子科技大学学报
学科
工学
关键词
四甲基氢氧化铵
终止腐蚀
高温压力传感器
各向异性腐蚀
硅杯
年,卷(期)
2000,(6)
所属期刊栏目
学术论文与技术报告
研究方向
页码范围
609-612
页数
4页
分类号
TN379
字数
2094字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-0548.2000.06.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曲宏伟
天津大学电子信息工程学院
11
133
5.0
11.0
2
姚素英
天津大学电子信息工程学院
160
911
14.0
21.0
3
张生才
天津大学电子信息工程学院
41
316
11.0
15.0
4
张维新
天津大学电子信息工程学院
10
86
7.0
9.0
5
刘洪
天津大学电子信息工程学院
62
1112
18.0
32.0
6
毛赣如
天津大学电子信息工程学院
3
32
3.0
3.0
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共引文献
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节点文献
引证文献
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1992(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1996(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2000(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2002(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2008(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2009(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2010(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2012(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
2013(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2015(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2017(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
2018(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
四甲基氢氧化铵
终止腐蚀
高温压力传感器
各向异性腐蚀
硅杯
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子科技大学学报
主办单位:
电子科技大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-0548
CN:
51-1207/T
开本:
大16开
出版地:
成都市成华区建设北路二段四号
邮发代号:
62-34
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
4185
总下载数(次)
13
总被引数(次)
36111
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