Amodgen:基于约束的CMOS模拟电路器件版图生成器

• 作者: 关键 唐璞山 曾璇 赵文庆
• 来源期刊: 计算机辅助设计与图形学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 模拟集成电路设计 版图自动生成 模拟约束
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 电子设计自动化
• 页码范围: 34-38
• 页数: 5页
• 分类号: TP391.72
• 字数: 260字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-9775.2000.01.007

摘要

器件版图生成是模拟电路版图设计自动化的关键问题之一.为了使MOS器件版图的性能、形状、面积能在生成阶段得到综合优化,从而有助于解决高层次的模拟电路模块间的布局和布线问题,提出了一种新的模拟电路器件版图生成方法,并开发了基于几何约束、寄生约束、匹配约束的模块生成器Amodgen.Amodgen 针对不同的器件采用不同的版图结构,如MOS晶体管的交指(interdigitize)结构,电容的同心阵列结构,电阻垂直排列的交织(interleave)结构等,这些结构可以减小因集成电路制造工艺不均匀带来的器件失配误差.同时,Amodgen 还应用哑元条来消除边缘相关的横向刻蚀效应对器件精度的影响.基于约束的生成方法和优化版图结构技术的结合,使Amodgen可以快速、高效地生成符合电路性能要求的版图.