软X射线投影光刻技术

• 作者: 曹健林 王占山 金春水
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线 投影光刻 集成电路
• 年，卷（期）: 2000,（5）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 559-564
• 页数: 6页
• 分类号: O434.14
• 字数: 5590字
• 语种: 中文

摘要

软X射线投影光刻作为特征线宽小于0.1μm的集成电路制造技术,倍受日美两个集成电路制造设备生产大国重视.随着用于软X射线投影光刻的无污染激光等离子体光源、高分辨率大视场投影光学系统、无应力光学装调工艺、深亚纳米级镜面加工和多层膜制备、低缺陷反射式掩模、表面成像光刻胶、精密扫描机构等关键技术均取得了突破.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	56	202	9.0	11.0
2	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	37	328	10.0	17.0
3	王占山	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	9	63	5.0	7.0