金属与导电材料

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 内应力 溅射薄膜 导电材料 磁控溅射法 干涉法测量 基片温度 合金薄膜 电子技术 工作气压 光平面
• 年，卷（期）: 2000,（12）
• 页码范围: 5-5
• 页数: 1页
• 分类号: TN

摘要

【正】 0019789NiCr 溅射薄膜内应力的研究[刊]/于映//真空电子技术.-2000,(5).-9～12(C)本文采用磁控溅射法在0.5mm 厚的40Cr 钢基片上沉积1～12μm 的 NiCr 合金薄膜,运用钠光平面干涉法测量 NiCr 溅射薄膜的内应力,研究表明影响NiCr 薄膜内应力的主要因素是工作气压和基片温度,并运用 Klokolm 理论对该影响作用进行了分析。参5