光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究

• 作者: 孙冬柏 杨德钧 杨玉国 许韵华
• 来源期刊: 北方交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光敏剂 交流阻抗 化学镀镍
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 所属期刊栏目: 应用化学
• 页码范围: 48-49
• 页数: 2页
• 分类号: TG178
• 字数: 1109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0291.2001.06.014

摘要

在光敏剂存在时,光照条件下可发生化学镀反应,阻抗图谱中出现一个容抗环和一个吸附环,吸附是H2PO-2在反应过程中的吸附.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨玉国	北方交通大学理学院	5	24	3.0	4.0
2	许韵华	北方交通大学理学院	4	18	2.0	4.0
3	孙冬柏	北京科技大学表面科学与腐蚀工程系	144	1350	20.0	26.0
4	杨德钧	北京科技大学表面科学与腐蚀工程系	16	238	11.0	15.0