高密度等离子体工艺总体模型初探

• 作者: 李爱军 杨银堂
• 来源期刊: 核聚变与等离子体物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体 模型 数值模拟
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 7-12
• 页数: 6页
• 分类号: O539
• 字数: 3435字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6086.2001.01.002

摘要

介绍了与高密度等离子体工艺相关的模型和数值模拟方法，即连续流和动力学方法。在漂流-扩散方程的连续流模型和单元粒子/蒙特卡罗碰撞动力学模型的基础上，提出了一个等离子体工艺模型。讨论了对等离子体鞘层、等离子体刻蚀和淀积过程的模拟方法，提出了一个高密度等离子体工艺总体模型的初步方案。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨银堂	西安电子科技大学微电子所	420	2932	23.0	32.0
2	李爱军	西安电子科技大学微电子所	1	1	1.0	1.0