X光纳米充刻掩模的离子束制备法

• 作者: 伊福廷 吴自玉 巨新 张菊芳 彭良强 韩勇
• 来源期刊: 北京同步辐射装置：英文版
• 学科: 物理学
• 关键词: X光 纳米结构 光刻 纳米线 掩模 核孔膜 电化学沉积 离子束制备法 高能重离子
• 年，卷（期）: bjtbfszzywb,（2）
• 页码范围: 117-118
• 页数: 0页
• 分类号: O571.33

摘要

重离子柬轰击聚碳酸酯后．对样品进行陈化和紫外线照射数化，在优化条件下蚀刻后得到纳米孔径核孔膜。利用电化学沉积技术在核孔膜中制备了最小孔径为30纳米的铜纳米线。获得的钥纳米线／聚碳酸酯可以作为x光纳米光刻的腌膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巨新	中国科学院高能物理所	16	134	9.0	11.0
2	彭良强	中国科学院高能物理所	24	141	7.0	11.0
3	张菊芳	中国科学院高能物理所	21	136	6.0	11.0
4	韩勇	中国科学院高能物理所	67	1000	16.0	30.0
5	吴自玉	中国科学院高能物理所	41	387	11.0	18.0
6	伊福廷	中国科学院高能物理所	38	150	6.0	10.0