工艺参数对铸造铝-硅合金微弧氧化层特性的影响

• 作者: 卢立红 沈德久 王玉林
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 陶瓷层 工艺参数
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 32-34,40
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.453
• 字数: 1303字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2001.01.010

摘要

用微弧氧化的方法在铸造铝-硅合金基体上获得陶瓷层。分别研究了电流密度及强化时间对陶瓷层厚度、表面粗糙度及硬度的影响，以及强化时间对成膜速度的影响。结果表明：陶瓷层厚度、表面粗糙度都随电流密度及强化时间的增大而增大，膜厚随二者增加有一极限值：硬度随电流密度增加而增加，也有一极限值：成膜速度在较低电流密度时不随时间而变，在较高电流密度时，成膜速度随时间增加而下降，最终趋于零，电流密度越高，下降速度越快。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢立红	秦皇岛市燕山大学材料与化工学院	1	58	1.0	1.0
2	沈德久	秦皇岛市燕山大学材料与化工学院	1	58	1.0	1.0
3	王玉林	秦皇岛市燕山大学材料与化工学院	2	58	1.0	2.0