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NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
作者:
吴廷斌
江伯鸿
漆璿
王文杰
王莉
董荆山
蔡炳初
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
形状记忆合金
NiTi
薄膜
残余应力
摘要:
采用X射线掠射法和轮廓法,测量了单晶Si基板上用磁控溅射法制备的NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力,分析了其与薄膜厚度以及晶化处理温度等工艺条件的关系.结果表明:该薄膜中的残余应力主要来源于薄膜同基板材料的膨胀系数和晶格参数不匹配;薄膜厚度越大,残余应力越小;晶化处理温度对因热胀系数差异带来的热拉应力因马氏体相变而致的相变压应力均有不同程度的影响.
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内容分析
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
NiTi形状记忆合金薄膜的残余应力
来源期刊
上海交通大学学报
学科
工学
关键词
形状记忆合金
NiTi
薄膜
残余应力
年,卷(期)
2001,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
436-439
页数
4页
分类号
TG139.6
字数
2915字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1006-2467.2001.03.027
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王莉
85
773
14.0
24.0
2
蔡炳初
49
769
15.0
26.0
3
江伯鸿
10
125
7.0
10.0
4
董荆山
2
24
1.0
2.0
5
吴廷斌
4
49
3.0
4.0
6
漆璿
5
42
2.0
5.0
7
王文杰
8
68
5.0
8.0
传播情况
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节点文献
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NiTi
薄膜
残余应力
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
上海交通大学学报
主办单位:
上海交通大学
出版周期:
月刊
ISSN:
1006-2467
CN:
31-1466/U
开本:
大16开
出版地:
上海市华山路1954号
邮发代号:
4-338
创刊时间:
1956
语种:
chi
出版文献量(篇)
8303
总下载数(次)
20
总被引数(次)
98140
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