XPS研究大气环境下热处理温度对玻璃基TiN薄膜组成与结构的影响

• 作者: 赵修建 赵青南
• 来源期刊: 武汉理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: XPS TiN薄膜 磁控溅射 热处理
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TQ171.72
• 字数: 2461字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4431.2001.01.003

摘要

用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜.镀膜试样在大气环境下分别经520C、570℃和620℃热处理10 min.用X射线光电子能谱(XPS)得到的结果显示,经520℃热处理的试样,TiN薄膜上出现了TiNxOy层.经570℃热处理的试样,TiN薄膜上的TiNxOy成分减少,TiO2的含量增加,620 C热处理的试样表面上主要是TiO2.570℃和620℃热处理的试样表面上存在少量来源于TiN热氧化分解的单质氮.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵修建		220	2735	25.0	43.0
2	赵青南		45	423	12.0	19.0