通用工艺与设备

• 来源期刊: 电子科技文摘
• 学科: 工学
• 关键词: 工艺与设备 会议录 专题讨论会 光学干涉 微电子制造 纳米技术 辐射损伤 激光弯曲成形 微波滤波器 控制系统
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TN

摘要

【正】 SPIE-Vol.3738 01095991999年 SPIE 会议录,卷3738:光学干涉涂层的进展=1999 proceedings of SPIE.Vol.3738:advances in opticalinterference coatings[会,英]/SPIE-the International So-clety for Owical Engineering.—1999.—562P.(PC)本会议录收录了于1999年5月25～27日在德国柏林召开的光学干涉涂层的进展专题讨论会上发表的67篇论文。内容涵盖薄膜技术与材料,特征说明,一般设计.窄带滤波器,微波滤波器、微空腔谐振器和涂层光栅,激光器与辐射损伤,光散射与 AFM 研究等。SPIE-Vol.3740 01096001999年 SPIE 会议录,卷3740:传感与纳米技术用的光学工程(ICOSN’99)=1999 proceedings of SPIE,Vol.3740:optical engineenng for sensing and nanotechnology