等离子体基脉冲偏压沉积DLC膜的氢分布和氢含量

• 作者: 夏立芳 孙明仁
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: DLC膜 氢分布 氢含量
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 777-781
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2419字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2002.04.022

摘要

用核反应分析方法,对等离子体基脉冲偏压沉积DLC膜的氢分布和氢含量进行了较系统的研究.结果表明,用等离子体基脉冲偏压沉积技术可获得较低氢含量的DLC膜,其氢含量范围约为6at%～17at%,且氢沿膜厚是均匀分布的,随等离子体密度及离化率降低,DLC膜的氢含量增加,荷能离子对生长表面的轰击具有较强的析氢作用,工作气体中引入氢气促进DLC膜中氢的析出.