聚合物9×9阵列波导光栅复用器的工艺研究

• 作者: 崔占臣 张大明 王菲 衣茂斌 赵禹 陈开鑫 马春生
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 聚合物 阵列波导光栅 掩模技术
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: OEIC与IOC
• 页码范围: 178-181
• 页数: 4页
• 分类号: TN256|TN205
• 字数: 2694字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.03.009

摘要

首次采用铝掩模工艺制备出9×9硅基聚合物阵列波导光栅(AWG)复用器.结果表明,在AWG器件制作工艺上,铝掩模技术明显优于厚胶掩模技术.用这种技术制备的器件,其结构指标与理论设计相符合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔占臣	吉林大学化学学院	21	303	11.0	17.0