工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响

• 作者: 刘式墉 张大明 张海明 李德禄 秦政坤 马春生
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 阵列波导光栅 波分复用器 工艺公差 传输光谱 串扰
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 926-931
• 页数: 6页
• 分类号: TN256
• 字数: 3021字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.05.031

摘要

依据阵列波导光栅(AWG)的传输理论,分析了工艺公差对硅基聚合物AWG波分复用器性能的影响.分析结果表明,工艺公差将引起AWG传输光谱的漂移,并使串扰增大.为了实现AWG器件正常的解复用功能,我们对AWG工艺公差的累积和补偿效应进行了讨论.