辐射烧蚀CH薄膜非平衡理论计算与实验比对分析

• 作者: 丁耀南 冯庭桂 张利发 李沄生 李蒙 杨家敏 江少恩 盛家田
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 辐射输运 辐射烧蚀 辐射流
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 865-868
• 页数: 4页
• 分类号: TN246
• 字数: 1615字
• 语种: 中文

摘要

用一维非平衡辐射输运程序和实验提供的黑腔辐射流,对CH薄膜靶的辐射烧蚀进行了数值模拟计算.计算结果表明,非平衡的黑腔辐射场对CH薄膜靶辐射烧蚀的影响十分明显.出靶外界面的辐射流总强度、等效辐射温度随时间变化、400eV光子出界面延迟时间随靶厚度变化规律等方面的数值模拟结果与实验结果基本符合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛家田		2	7	2.0	2.0
2	杨家敏	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	48	168	7.0	10.0
3	李沄生		4	5	1.0	2.0
4	丁耀南	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	11	75	5.0	8.0
5	冯庭桂		15	47	4.0	6.0
6	江少恩	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	93	288	9.0	12.0
7	张利发		2	7	2.0	2.0