CH薄膜非平衡辐射烧蚀的特性

• 作者: 冯庭桂 张利发 曾先才 李生 李蒙 盛家田 高耀明
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 非平衡辐射烧蚀 特性 定标律 CH薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 195-199
• 页数: 5页
• 分类号: TN246
• 字数: 3073字
• 语种: 中文

摘要

用一维多群辐射输运流体力学RDMG程序数值模拟研究了在神光-II黑腔辐射源条件下,非平衡辐射烧蚀CH薄膜的过程,给出了与平衡辐射烧蚀不同的烧蚀图像,得到了非平衡辐射烧蚀相关的数值定律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	盛家田		2	7	2.0	2.0
2	冯庭桂		15	47	4.0	6.0
3	张利发		2	7	2.0	2.0
4	李蒙		5	11	2.0	3.0
5	高耀明		11	21	3.0	4.0
6	曾先才		3	7	2.0	2.0
7	李生		1	2	1.0	1.0