390.60nm激光作用下Si(CH3)4的多光子解离与硅原子的(1+1)电离

• 作者: 刘新建 刘玉芳 施德恒
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 四甲基硅 飞行时间质谱 反应动力学 多光子解离电离 多光子电离解离
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 激光物理
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: O431
• 字数: 3805字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2002.05.016

摘要

在390.60nm的紫外激光作用下,利用超声分子束技术与飞行时间(TOF)质谱仪相结合的方法研究了气相四甲基硅分子多光子电离(MPI)的TOF质谱,在较低能量的激光作用下主要检测到了Si(CH3)+、Si+、C2+等离子的信号,有时甚至只检测到了Si+离子的信号;在较高能量的激光作用下主要检测到了 Si(CH3)n(n=1,2,3,4)、Si+、C2+甚至还有SiC3+,SiC 2+等离子的信号.据此江结合以前得到的结论,讨论了四甲基硅分子可能的MPI过程.得出了 Si+主要来自于Si(CH3)4的多光子解离-Si原子的(1+1)电离、Si(CH3)+n(n=1,2,3)主要来自于Si(CH3)n(n=1,2.3)的(3+)电离、Si(CH3)+4来自于Si(CH3)4的(3+1)电离的结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施德恒	空军第一航空学院基础部	74	593	15.0	21.0
2	刘玉芳	河南师范大学物理系	156	576	11.0	17.0
3	刘新建		4	30	2.0	4.0