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摘要:
研究了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的新方法,使用过氧化氢(H2O2)和氟酸(HF)作为光化学媒质,使用ArF紫外激光作为光源,无需事先加工抗蚀膜,可直接在硅表面进行蚀刻.在H2O2与HF的浓度比为1.3时,蚀刻效果最佳,当激光能量密度为29 mJ/cm2, 照射脉冲数为10000次时,得到210 nm的蚀刻深度.
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应用
综述
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 对硅片进行无抗蚀膜光化学蚀刻的一种新方法
来源期刊 中国激光 学科 工学
关键词 硅片 紫外激光 无抗蚀膜光化学蚀刻
年,卷(期) 2002,(3) 所属期刊栏目 简讯
研究方向 页码范围 286-288
页数 3页 分类号 TN249|TG665
字数 1295字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.03.023
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨杰 中山大学超快速激光光谱学国家重点实验室 11 44 4.0 6.0
2 刘焰发 中山大学超快速激光光谱学国家重点实验室 4 31 3.0 4.0
传播情况
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2019(1)
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研究主题发展历程
节点文献
硅片
紫外激光
无抗蚀膜光化学蚀刻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国激光
月刊
0258-7025
31-1339/TN
大16开
上海市嘉定区清河路390号 上海800-211邮政信箱
4-201
1974
chi
出版文献量(篇)
9993
总下载数(次)
26
总被引数(次)
105193
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
广东省自然科学基金
英文译名:Guangdong Natural Science Foundation
官方网址:http://gdsf.gdstc.gov.cn/
项目类型:研究团队
学科类型:
论文1v1指导