在Ar与CF4混合气氛中生长LiYF4晶体

• 作者: 杜天敏 袁静 那木吉拉图 阮永丰
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: LiYF4晶体 晶体生长 生长气氛 氟氧化合物
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 材料和元件
• 页码范围: 425-427
• 页数: 3页
• 分类号: TQ131.1+1|TQ133.3
• 字数: 2253字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2002.06.005

摘要

报道了在Ar与CF4混合气氛中成功地生成出高质量的Nd∶LiYF4晶体,并比较了在单一Ar气氛和Ar与CF4混合气氛中生长的LiYF4晶体的差别.X射线衍射表明,在单一Ar气氛中产生的不纯物质主要是氟氧化合物,Ar与CF4混合气氛中,此种不纯物质能够被有效地消除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阮永丰	天津大学理学院应用物理系	57	357	11.0	14.0
2	那木吉拉图	天津大学理学院应用物理系	4	32	2.0	4.0
3	袁静	天津大学理学院应用物理系	8	100	6.0	8.0
4	杜天敏	天津大学理学院应用物理系	2	14	2.0	2.0