用于近场集成光学头的面阵平面微透镜

• 作者: 张新宇 裴先登 谢长生
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 非梯度折射率 平面微透镜 离子束蚀刻与溅射
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 176-178
• 页数: 3页
• 分类号: TH706
• 字数: 2730字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2002.02.002

摘要

讨论了采用常规的光刻热熔法及灰度掩模技术制作非梯度折射率型平面折射和平面衍射微透镜的情况.定性地分析了在不同的工艺条件下可能得到的平面端面微光学器件的种类和形貌特征.给出了在石英衬底表面通过光刻热熔工艺和氢离子束蚀刻所得到的球面及圆弧轮廓特征的凹形掩模的SEM照片,并对用于近场集成光学头的平面微透镜和半导体激光器的集成结构作了初步分析.利用这一技术所制成的平面折射微透镜可以很方便地与半导体光源等器件匹配耦合及集成固联.