硅微透镜阵列与红外焦平面阵列的单片集成

• 作者: 何苗 孔令斌 易新建 陈四海
• 来源期刊: 华中科技大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 二元光学 部分刻蚀 微透镜阵列 红外焦平面阵列 单片集成
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TN214
• 字数: 2466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2001.05.011

摘要

基于标量衍射理论，考虑焦距长度与微透镜尺寸的关系，提出了一种新的制作二元光学衍射微透镜的方法——部分刻蚀法.利用这种方法制作了256×256硅微透镜阵列，并将其与PtSi红外焦平面阵列单片集成在一起，使红外焦平面阵列的灵敏度R和比探测率D*都提高了1.7倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易新建	华中科技大学光电子工程系	102	1261	21.0	29.0
2	陈四海	华中科技大学光电子工程系	46	459	12.0	18.0
3	孔令斌	华中科技大学光电子工程系	5	18	3.0	4.0
4	何苗	华中科技大学光电子工程系	8	50	4.0	7.0