磁流变抛光液的研制

• 作者: 张学军 张峰 张忠玉 潘守甫 牛海燕 程灏波 郑立功
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 磁流变抛光液 剪切应力 抛光区 材料去除率
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 490-491，494
• 页数: 3页
• 分类号: TM27
• 字数: 3208字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.05.012

摘要

磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术.首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理.然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究.在外加磁场强度高于318kA/m时,磁流变抛光液的剪切应力大于20kPa,该应力足以完成磁流变抛光.最后给出一个磁流变抛光的实例,证明了磁流变抛光液的实用性.实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为0.2μm/s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张峰	吉林大学原子分子物理研究所	28	468	8.0	21.0
2	潘守甫	吉林大学原子分子物理研究所	31	130	4.0	10.0
3	张学军	长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室	3	91	3.0	3.0
4	张忠玉	长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室	3	91	3.0	3.0
5	郑立功	长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室	1	38	1.0	1.0
6	程灏波	长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室	1	38	1.0	1.0