用正电子研究CuCl2在NaY上的扩散

• 作者: 朱俊 王少阶 罗锡辉
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 正电子湮没谱学 氯化铜 沸石
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 页码范围: 2159-2162
• 页数: 4页
• 分类号: TQ426.61
• 字数: 3263字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2002.11.028

摘要

用正电子湮没谱学研究了机械混合CuCl2与NaY中CuCl2在NaY沸石中的扩散. 分别测量了不同质量比的CuCl2-NaY(0～0.03)沸石分子筛经140 ℃烘烤1 h; CuCl2-NaY(0～0.05)经450 ℃烘烤4 h; CuCl2-NaY(0.01)经不同温度烘烤1 h以及经300 ℃下烘烤烘不同时间后的正电子寿命谱. 所有谱中都出现了5(或4)个寿命分量, 其第3,4,5寿命分量分别与β笼、超笼及沸石微粒界面空间的大小和数量相关. 实验表明, 正电子湮没谱学可敏感地探测出少量CuCl2在NaY沸石中的扩散变化. 而对于只含少量氯化铜(0.01)的情况, 虽经高温长时间烘烤, 但仍有相当数量的氯化铜存在于NaY外表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱俊	武汉大学物理系	35	46	4.0	5.0
2	王少阶	武汉大学物理系	27	75	5.0	7.0
3	罗锡辉		10	48	3.0	6.0