三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性

• 作者: 余保龙 尹国盛 干福熹 顾玉宗
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 亚酞菁 三阶非线性 非线性吸收 Z扫描技术
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 非线性光学
• 页码范围: 144-147
• 页数: 4页
• 分类号: O631.2+4
• 字数: 1707字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2002.02.004

摘要

通过单光束Z扫描技术,在波长为1.064μm和532nm、脉宽为38ps条件下研究了一种新的酞菁相关化合物三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料的三阶非线性光学特性.观察到在1.064μm(离强吸收带很远)下的双光子吸收和在532nm下的反饱和吸收现象,并计算出了相应的非线性吸收系数.在1.064μm下的非共振三阶非线性极化率和在532nm下的共振三阶非线性极化率χ(3)分别为6.1×10-12 esu和6.7×10-10 esu,显著大于相关酞菁的值.这些结果表明三新戊氧基溴硼亚酞菁薄膜材料在非线性光学方面具有潜在的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾玉宗	中国科学院上海光学精密机械研究所	52	384	13.0	17.0
3	干福熹	中国科学院上海光学精密机械研究所	288	2527	23.0	29.0
4	尹国盛	河南大学物理系	57	307	10.0	15.0
5	余保龙	河南大学物理系	10	161	9.0	10.0