Ge/Al-SiO2薄膜材料的非线性光学特性

• 作者: 王加贤 陈虎
• 来源期刊: 华侨大学学报（自然科学版）
• 关键词: 三阶非线性 光学性质 Ge/Al-SiO2薄膜 Z扫描技术 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 页码范围: 380-383
• 分类号: O437|O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用磁控共溅射及后退火技术制备Ge,Al共掺SiO2薄膜,通过X射线衍射谱和傅里叶红外吸收谱对样品进行表征,并采用皮秒脉冲激光器的单光束Z扫描技术研究薄膜的三阶非线性光学特性.研究结果表明:薄膜材料对1 064 nm的光具有自散焦和双光子吸收效应,薄膜的三阶极化率x(3)为3.84×10-16 m2·V-2.薄膜材料的三阶非线性极化率比SiO2和GeO2均有显著的提高,说明薄膜材料中的纳米Ge颗粒的量子限域效应及双光子吸收效应是其产生非线性光学效应增强的主要原因,同时Al的掺杂也促进了材料的三阶非线性光学效应的增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈虎	华侨大学信息科学与工程学院	5	45	2.0	5.0
2	王加贤	华侨大学信息科学与工程学院	81	268	9.0	12.0