nc-Si/SiO2复合膜的非线性光学性质

• 作者: 郭震宁
• 来源期刊: 华侨大学学报（自然科学版）
• 关键词: nc-Si/SiO2复合膜 简并四波混频 光学非线性 三阶极化率
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 243-245
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-5013.2007.03.006

摘要

采用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)技术,制备a-SiOx:H (0＜x＜2) 薄膜,经高温退火形成纳米硅晶粒(nc-Si)埋入SiO2基质的复合膜nc-Si/SiO2.采用简并四波混频技术(DFWM),研究nc-Si/SiO2复合膜的非线性光学性质,观察到这种纳米薄膜材料的位相共轭信号,测得样品在光波波长在589 nm处的三阶非线性极化率为X(3)=5.6×10-6 esu,并分析其光学非线性增强机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭震宁	华侨大学信息科学与工程学院	61	336	10.0	15.0