溶胶凝胶制备纳米多孔SiO2光学增透薄膜耐磨特性强化研究

• 作者: 倪星元 吴广明 周斌 沈军 王珏
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 溶胶-凝胶技术 增透薄膜 纳米多孔结构 SiO2薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 374-379
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.023

摘要

在溶胶-凝胶基础上,采用碱/酸两步法和浸渍镀膜技术制备出纳米多孔SiO2薄膜,并将该薄膜在空气和氨气与水蒸气的混合气体中热处理.使用透射电子显微镜、原子力显微镜、傅立叶红外光谱仪、椭偏仪、分光光度计等分析了薄膜的特性.实验结果表明:采用碱/酸两步催化法能够明显提高纳米多孔SiO2光学增透薄膜的力学特性,混合气体中的热处理又使其力学性能得到进一步改善.薄膜耐磨等力学性能增强归因于SiO2颗粒间更多的化学键合.在力学性能增强的同时,薄膜折射率仍保持约1.24的较低值,光学增透效果良好,透射率≥99.5%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周斌	同济大学波耳固体物理研究所	140	1582	22.0	31.0
2	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
3	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
4	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
5	倪星元	同济大学波耳固体物理研究所	48	742	16.0	25.0