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面向概念设计的草绘系统
面向概念设计的草绘系统
作者:
薛丽霞
邓家湜
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
概念设计
草绘
几何约束CAD
摘要:
产品概念设计是产品设计开发过程中最重要的阶段,在分析了概念设计阶段草绘方式重要性的基础上,介绍了两种不同的草绘模式,并提出了一个草绘系统实现的系统框架和设计过程,为设计者提供了一个自然流畅的设计空间.
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文献信息
篇名
面向概念设计的草绘系统
来源期刊
计算机工程与应用
学科
工学
关键词
概念设计
草绘
几何约束CAD
年,卷(期)
2002,(10)
所属期刊栏目
工程与应用
研究方向
页码范围
254-256
页数
3页
分类号
TP391
字数
1288字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1002-8331.2002.10.084
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
薛丽霞
3
6
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2.0
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邓家湜
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草绘
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研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
计算机工程与应用
主办单位:
华北计算技术研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1002-8331
CN:
11-2127/TP
开本:
大16开
出版地:
北京619信箱26分箱
邮发代号:
82-605
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
39068
总下载数(次)
102
总被引数(次)
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